Facing Target Sputtering (FTS)의 원리와 응용
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| Publication Date | 2023/02/14 |
| Pages/Weight/Size | 210*297*15mm |
| ISBN | 9791141015640 |
| Categories | 자연과학 |
Description
Facing Target Sputtering(FTS) 장비를 처음 접하는 신입 연구자에게 매뉴얼이자 연구를 시작할 수 있는 작은 용기를 심어주는 책이다. 구성은 증착 공정의 기본이 되는 플라즈마와 기타 기구들의 원리와 종류에 관해 설명하고 스퍼터링의 원리와 장비의 원리에 관해 설명한다. 이후 FTS 장비 사용 방법과 공정 파라미터, 측정 기구들을 몇 가지 소개하고 유지 보수하는 방법을 설명하였다. 처음 연구실에 들어와 실험을 시작하기 어려운 상황에 든든한 보좌관 역할을 해주는 지침서가 될 것이다.
Contents
1장 플라즈마 기초
1.1 서론
1.2 플라즈마의 정의
1.3 플라즈마 생성조건
1.4 참고문헌
2장 반도체 진공 장비
2.1 진공펌프
2.2 PVD
2.3 ALD
2.4 참고문헌
3장 Facing Target Sputtering (FTS)
3.1 FTS의 구조
3.2 FTS 사용 방법
3.3 Sputtering 파라미터
3.4 박막 평가
3.5 참고 문헌
4장 유지 및 보수
4.1 타겟건 유지보수
4.2 챔버 유지보수
4.3 Leak 유지
1.1 서론
1.2 플라즈마의 정의
1.3 플라즈마 생성조건
1.4 참고문헌
2장 반도체 진공 장비
2.1 진공펌프
2.2 PVD
2.3 ALD
2.4 참고문헌
3장 Facing Target Sputtering (FTS)
3.1 FTS의 구조
3.2 FTS 사용 방법
3.3 Sputtering 파라미터
3.4 박막 평가
3.5 참고 문헌
4장 유지 및 보수
4.1 타겟건 유지보수
4.2 챔버 유지보수
4.3 Leak 유지